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二次離子質(zhì)譜SIMS:原理與基本概念

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2024-12-03

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二次離子質(zhì)譜SIMS兩種模式的應(yīng)用特點

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2024-11-27

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2024-09-29

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2024-01-19

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動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)在材料分析中的用途

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2023-12-14

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動態(tài)二次離子質(zhì)譜技術(shù)(D-SIMS)改變表面分析的局限性

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2023-12-14

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表面分析利器——TOF-SIMS飛行時間二次離子質(zhì)譜儀

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2023-12-11

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TOF-SIMS幾種不同濺射源的選擇

TOF-SIMS最早應(yīng)用于靜態(tài)SIMS,但隨著技術(shù)的發(fā)展迭代,TOF-SIMS也配備了濺射源,用于深層界面的分析和深度剖析。目前用于濺射的主要有雙束離子源(DSC)、氣體團簇離子源(GCS)、FIB三種,本文將以M6為原型介紹這三種濺射源的性能、參數(shù)和實際應(yīng)用。 雙束離子源(DSC O2/Cs) ...

2023-12-11

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