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    掠入射XRD(GIXRD)

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    掠入射XRD(GIXRD)

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    項(xiàng)目介紹

    掠入射X射線衍射(GIXRD)是一種讓×射線略過(guò)樣品表面的技術(shù),這種技術(shù)能夠更真實(shí)全面地表征出薄膜(特別是共輒聚合物薄膜)的微結(jié)構(gòu)。

    測(cè)試光是平行光,相對(duì)于常規(guī)的衍射光來(lái)說(shuō)能量較小,因此掠入射測(cè)試XRD的譜圖絕對(duì)峰強(qiáng)相對(duì)較弱。但是平行光可以更好的關(guān)注薄膜表面的信息,也不容易測(cè)到基底,因此掠入射XRD專(zhuān)門(mén)用于測(cè)試薄膜樣品。

    薄膜尺寸沒(méi)有特別要求,但是需測(cè)試面平整光潔,不要有遮擋物。

    樣品要求

    1、樣品表面光滑平整,測(cè)試區(qū)域邊緣處不要有遮擋,掠入射是平行光源,容易遮擋待測(cè)物質(zhì)的信號(hào);

    2、粉末至少10mg,最好多一些;塊體:長(zhǎng)≤18mm,寬≤18mm,厚度≤2mm,不同的測(cè)試儀器要求的尺寸會(huì)有所不同,如有其他尺寸,可聯(lián)系項(xiàng)目經(jīng)理溝通確認(rèn)。

    項(xiàng)目案例
    常見(jiàn)問(wèn)題
    1、粉末樣品量過(guò)少會(huì)有什么樣的影響?

    答:因?yàn)榉勰悠芬仢M整個(gè)樣品臺(tái),樣品量過(guò)少可能導(dǎo)致X射線打在樣品臺(tái)上,從而影響數(shù)據(jù)質(zhì)量。

    2、為什么部分樣品的測(cè)試結(jié)果中衍射峰強(qiáng)度較低,甚至沒(méi)有明顯的衍射峰?

    答:樣品的衍射峰強(qiáng)度主要跟自身結(jié)晶度有關(guān),結(jié)晶度越好,衍射峰越明顯,其次才是樣品量和儀器功率。

    3、步長(zhǎng)和掃描速度有何關(guān)聯(lián)?掃描速度對(duì)樣品的測(cè)量有何影響?

    答:步長(zhǎng)決定了掃描的精細(xì)程度,掃描速度是由步長(zhǎng)和每步的時(shí)間決定的,每步的時(shí)間長(zhǎng)短會(huì)影響衍射峰的強(qiáng)度和信噪比。每步的時(shí)間越長(zhǎng),步長(zhǎng)越小,則譜越精細(xì),信噪比越高,可用于定量計(jì)算,如XRD精修等。

    4、XRD定量的精確度如何?

    答:XRD為半定量分析,定量測(cè)試結(jié)果精確度有限,僅供參考。

    5、為何有些樣品的測(cè)試結(jié)果基線較高?能否改善?

    答:有熒光散射現(xiàn)象的樣品,如鐵含量較高的樣品,測(cè)試結(jié)果會(huì)出現(xiàn)基線較高的情況,這是無(wú)法改善的。

    6、Cu靶的波長(zhǎng)是多少?

    答:Kα1=1.540538埃。

    掠入射XRD(GIXRD)

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