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    掠入射XRD（GIXRD）

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    掠入射XRD（GIXRD）

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    項(xiàng)目介紹

    掠入射X射線衍射(GIXRD)是一種讓×射線略過(guò)樣品表面的技術(shù)，這種技術(shù)能夠更真實(shí)全面地表征出薄膜（特別是共輒聚合物薄膜)的微結(jié)構(gòu)。

    測(cè)試光是平行光，相對(duì)于常規(guī)的衍射光來(lái)說(shuō)能量較小，因此掠入射測(cè)試XRD的譜圖絕對(duì)峰強(qiáng)相對(duì)較弱。但是平行光可以更好的關(guān)注薄膜表面的信息，也不容易測(cè)到基底，因此掠入射XRD專(zhuān)門(mén)用于測(cè)試薄膜樣品。

    薄膜尺寸沒(méi)有特別要求，但是需測(cè)試面平整光潔，不要有遮擋物。

    樣品要求

    1、樣品表面光滑平整，測(cè)試區(qū)域邊緣處不要有遮擋，掠入射是平行光源，容易遮擋待測(cè)物質(zhì)的信號(hào)；

    2、粉末至少10mg，最好多一些；塊體：長(zhǎng)≤18mm，寬≤18mm，厚度≤2mm，不同的測(cè)試儀器要求的尺寸會(huì)有所不同，如有其他尺寸，可聯(lián)系項(xiàng)目經(jīng)理溝通確認(rèn)。

    項(xiàng)目案例
    常見(jiàn)問(wèn)題
    1、粉末樣品量過(guò)少會(huì)有什么樣的影響？

    答：因?yàn)榉勰悠芬仢M整個(gè)樣品臺(tái)，樣品量過(guò)少可能導(dǎo)致X射線打在樣品臺(tái)上，從而影響數(shù)據(jù)質(zhì)量。

    2、為什么部分樣品的測(cè)試結(jié)果中衍射峰強(qiáng)度較低，甚至沒(méi)有明顯的衍射峰？

    答：樣品的衍射峰強(qiáng)度主要跟自身結(jié)晶度有關(guān)，結(jié)晶度越好，衍射峰越明顯，其次才是樣品量和儀器功率。

    3、步長(zhǎng)和掃描速度有何關(guān)聯(lián)？掃描速度對(duì)樣品的測(cè)量有何影響？

    答：步長(zhǎng)決定了掃描的精細(xì)程度，掃描速度是由步長(zhǎng)和每步的時(shí)間決定的，每步的時(shí)間長(zhǎng)短會(huì)影響衍射峰的強(qiáng)度和信噪比。每步的時(shí)間越長(zhǎng)，步長(zhǎng)越小，則譜越精細(xì)，信噪比越高，可用于定量計(jì)算，如XRD精修等。

    4、XRD定量的精確度如何？

    答：XRD為半定量分析，定量測(cè)試結(jié)果精確度有限，僅供參考。

    5、為何有些樣品的測(cè)試結(jié)果基線較高？能否改善？

    答：有熒光散射現(xiàn)象的樣品，如鐵含量較高的樣品，測(cè)試結(jié)果會(huì)出現(xiàn)基線較高的情況，這是無(wú)法改善的。

    6、Cu靶的波長(zhǎng)是多少？

    答：Kα1=1.540538埃。

    掠入射XRD（GIXRD）

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