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    磁控濺射鍍膜

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    磁控濺射鍍膜

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    項(xiàng)目介紹

    磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離。

    氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時(shí)間，便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。

    磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)。

    樣品要求

    下單前確認(rèn)鍍膜條件包括：真空度，保護(hù)氣體及其流量，工作壓力，濺射功率，濺射時(shí)間，基板偏置電壓等。如果不知道濺射條件，也可以告知濺射鍍膜厚度條件實(shí)驗(yàn)室按照經(jīng)驗(yàn)確定。

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