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當(dāng)前位置:數(shù)據(jù)與論文 ?  數(shù)據(jù)分析 ? 

XRD數(shù)據(jù)精修

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項(xiàng)目介紹

可進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu),晶胞參數(shù)(a, b, c, α, β, γ),晶胞體積,原子坐標(biāo),原子占有率,摻雜量或摻雜比,鍵長鍵角信息,相含量分析,晶粒尺寸,微觀應(yīng)力和溫度因子的確定、計(jì)算及修正。

樣品要求
1.測(cè)試時(shí)樣品量不能太少,需要正常填滿樣品槽;
2.須消除熒光背景,如樣品含有Fe,Co,Mn,須在測(cè)試時(shí)選擇“XRF”模式,以消除熒光背景;
3.須消除擇優(yōu)取向,樣品需充分研磨,300目以下,制樣時(shí)選擇“粗糙面壓實(shí)”。可以采用“毛玻璃”或“玻璃+300目砂紙”進(jìn)行壓實(shí);
4.須消除離軸誤差,即是消除樣品偏心;
5.一般須慢掃,一般4度/分鐘測(cè)試即可,具體視樣品狀況及精修要求而定;
6.測(cè)試越寬越好,至少需要5-80度。如要求計(jì)算晶胞參數(shù)、溫度因子(又稱位移因子),上限應(yīng)盡可能提高;
7.最強(qiáng)峰計(jì)數(shù)率(CPS)在5000-20000;
8.信噪比應(yīng)大于10,最好大于15。
項(xiàng)目案例

常見問題
1、XRD數(shù)據(jù)需要掃描多久?

具體要根據(jù)樣品情況來定,一般采用10°/min快掃之后根據(jù)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)來確定。

XRD數(shù)據(jù)精修

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