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紫外光電子能譜（UPS）

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紫外光電子能譜（UPS）

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馬騁

XRD、UPS、XPS、DLS、GIXRD、2D-WAXD、AFM-IR測試工程師

具有多年XPS、DLS等操作經驗。精通XPS技術在材料表征上的應用，尤其在催化、電池材料的峰形處理方面具有豐富經驗和實操技能。同時，在DLS樣品制備和濃度效應分析上有獨到的理解和實踐經驗。

項目介紹

紫外光電子能譜UPS（Ultraviolet Photoelectron Spectrometer）用于測定導體或半導體材料的功函數與價帶頂，它是以紫外線為激發(fā)光源的光電子能譜。激發(fā)源的光子能量較低，該光子產生于激發(fā)原子或離子的退激，最常用的低能光子源為氦Ⅰ和氦Ⅱ。紫外光電子能譜主要用于考察氣相原子、分子以及吸附分子的價電子結構。

應用：電子能譜目前主要應用于催化、金屬腐蝕、粘合、電極過程和半導體材料與器件等這樣一些極有應用價值的領域，探索固體表面的組成、形貌、結構、化學狀態(tài)、電子結構和表面鍵合等信息。隨著時間的推移，電子能譜的應用范圍和程度將會越來越廣泛，越來越深入。由于紫外光電子能譜的光源能量較低，線寬較窄（約為0.01eV),只能使原子的外層價電子、價帶電子電離，并可分辨出分子的振動能級,因此它被廣泛地用來研究氣體樣品的價電子和精細結構以及固體樣品表面的原子、電子結構。

樣品要求

1. 樣品為塊體或薄膜，尺寸小于1*1cm，厚度小于2mm，最好是新鮮干燥的薄膜、塊體材料，表面平整無污染（請標記好測試面）；

2. 粉末樣品實驗室制樣一般壓縮在導電膠上。如果客戶使用旋涂法制備樣品，要求是基材材質為ITO、FTO、單晶硅片等半導體材料。旋涂成膜也可以，要求均勻，厚度大于測試深度2nm，若制樣造成數據問題，需您自行承擔責任；

3. 盡量注明膜厚度，測試時作為參考；

4. UPS的光斑大小一般是1*1-3*3mm；默認激發(fā)源采用HeI（21.22eV）；

5. 測試粉末樣品風險大，不建議做，測試反饋真實數據，若是樣品問題造成數據問題，不支持解釋與復測，下單即默認接受風險；若提供粉末樣品，最好能多提供一些樣品以便實驗調整，至少需要50mg樣品，多多益善。

6. UPS塊體樣品測試時上下表面會粘導電膠，取下后也無法完全去除，因此UPS塊體樣品沒有特別說明，樣品不保留；UPS只測表面2nm左右的厚度，測試敏感，樣品在空氣中的放置時間長短也會對結果造成影響，因此不支持復測，敬請諒解！

項目案例