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電化學(xué)表征:循環(huán)伏安法詳解
來源:測試GO 時(shí)間:2020-12-01 17:22:09 瀏覽:24342次

【科研干貨】電化學(xué)表征:循環(huán)伏安法詳解-1

什么是循環(huán)伏安法?

循環(huán)伏安法(英文:cyclic voltammetry, CV)一般是給電極施加恒定掃描速度電壓持續(xù)的觀察電極表面電流和電位的關(guān)系,可以用來表征電極表面發(fā)生的反應(yīng)以及探討電極反應(yīng)的機(jī)理的一種方法。

CV可用于表征什么性能

循環(huán)伏安法常應(yīng)用于溶液體系的測量,可用于電極反應(yīng)的性質(zhì)、機(jī)理和電極過程動(dòng)力學(xué)參數(shù)的研究。因此可以用來表征電極修飾材料以及可溶性分子的性質(zhì),對于不同體系的研究需要選擇不同的體系,大多數(shù)電極材料表征均采用水溶液體系,而對于有機(jī)分子的表征一般采用有機(jī)體系。


CV的定性分析

CV可用于定性分析什么信息?其基本原理是什么?

CV可以定性分析1) 電極反應(yīng)的可逆程度;2) 反應(yīng)步驟以及機(jī)理;3) 電極材料性能。

電極反應(yīng)的可逆程度

循環(huán)伏安法中較為經(jīng)典的鐵氰化鉀體系為例。在該單電子氧化還原反應(yīng)中,F(xiàn)e(CN)63?氧化態(tài)物質(zhì),亞鐵氰化物離子Fe(CN)64?還原態(tài)物質(zhì)。Ecp, Eap分別為陰極峰值電位陽極峰值電位

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? 正掃時(shí)(向左的掃描)為陰極掃描:

Fe(CN)63- + e- = Fe(CN)62-

? 反掃時(shí)(向右的掃描)為陽極掃描:

Fe(CN)62- - e- = Fe(CN)63-

上述還原與氧化過程中的電荷轉(zhuǎn)移的速率很快,電極過程可逆。從還原峰值以及氧化峰值可以明顯得出這個(gè)結(jié)論。一般地,陽極掃描峰值電位Eap與陰極掃描峰值電位Ecp差值可以用來檢測電極反應(yīng)是否為Nernst反應(yīng)。當(dāng)一個(gè)電極反應(yīng)的峰值電流差值接近2.3 RT/nF (或59/n mV,25°C)時(shí),我們可以判斷該反應(yīng)為Nernst反應(yīng),即是一個(gè)可逆反應(yīng)。

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在可逆電極反應(yīng)過程中, ipa / ipc ≈ 1;

對于一個(gè)電化學(xué)反應(yīng)來說,一個(gè)電化學(xué)反應(yīng)發(fā)生就有一個(gè)峰電流和對應(yīng)的峰電勢。氧化產(chǎn)物在外加電勢負(fù)向回掃時(shí),不出現(xiàn)對應(yīng)的還原峰,表明該電極只進(jìn)行氧化過程,無還原反應(yīng),為不可逆的電極過程。

而當(dāng)外加電勢負(fù)向回掃時(shí),出現(xiàn)相應(yīng)的還原峰,并且氧化峰值電流與還原峰值電流相等,并且峰電勢的差EPc-EPa=59 mV,表明此電極反應(yīng)為完全可逆。當(dāng)電流峰值不等,且峰電勢差大于59 mV,此電極過程為半可逆

? 小結(jié)

對于可逆電化學(xué)反應(yīng),循環(huán)伏安圖的特性:

① 電流峰之間的電壓間隔為△E=EPa-EPc

② 峰值電壓的位置不作為電壓掃描速度的函數(shù)而改變。

③ 峰值電流的比值等于1

④ 峰值電流與掃描速度的平方根成正比。

反應(yīng)步驟以及機(jī)理

通過循環(huán)伏安圖波形、氧化還原峰電流的數(shù)值及其比值、峰電位等可以判斷電極反應(yīng)機(jī)理。同時(shí)可通過推斷反應(yīng)過程活化能來判斷反應(yīng)的可行性,對反應(yīng)機(jī)理進(jìn)行研究。

電極材料的表征

通過將材料修飾在鉑碳電極上可以進(jìn)行電極材料性能的表征,比如可以利用對不同生物分子溶液的電化學(xué)催化性能表征來對材料的催化性能進(jìn)行評估,同時(shí)也可以通過對于電容材料循環(huán)伏安法表征來進(jìn)一步確定其比電容大小等。

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如圖為利用循環(huán)伏安法計(jì)算并且比較石墨烯材料的比容量(Science, 2015, 350(6267): 1508-1513).

CV的定量分析

由于電化學(xué)測量過程中受影響因素較多,循環(huán)伏安法一般用于定性分析,很少用于定量分析。但是仍可以用于定量分析1) 擴(kuò)散系數(shù);2) 活化能計(jì)算;3) 微量分析。

擴(kuò)散系數(shù)

電流峰頂點(diǎn)處的法拉第電流稱為峰電流,對于快速電子轉(zhuǎn)移可逆反應(yīng)體系,其峰電流的大小可以用以下的公式(Randles-Sevcik公式)來表示。

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ip峰電流(A),F(xiàn)為法拉第常數(shù) (96485 C/mol), A為工作電極面積 ,D為擴(kuò)散系數(shù),c表示濃度,ν為電勢掃描速度,R為理想氣體常數(shù),T為絕對溫度。

25°C時(shí),將上式中的各常數(shù)合并后可以簡化表示成下面的式子:

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因此,峰值電流與氧化還原物質(zhì)的電極徑向表面濃度c,以及掃描速率的平方根成正比。掃描速率的平方根與還原峰值電流之間存在線性關(guān)系,因此可以通過繪制此圖的近似線并使用其斜率來求得擴(kuò)散系數(shù)D等參數(shù)。判斷擴(kuò)散反應(yīng)或者是吸附反應(yīng):改變掃描速率,看峰電流是與掃描速率還是它的二次方根成正比,若是與掃描速率成線性,就是表面控制過程與二次方根成線性,就是擴(kuò)散控制

估算活化能以及反應(yīng)速率系數(shù)


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根據(jù)Ecp,Eap可以求得吉布斯自由能數(shù)值,同時(shí)可以對平衡速率常數(shù)進(jìn)行計(jì)算。

微量分析

循環(huán)伏安實(shí)驗(yàn)中,某物質(zhì)在電極上具有明顯的氧化峰電流,而且在一定濃度范圍內(nèi),某物質(zhì)的氧化峰電流與其濃度呈線性關(guān)系。則可以根據(jù)該物質(zhì)在某一氧化峰電流,由線性關(guān)系反推出該物質(zhì)的濃度,從而計(jì)算出該物質(zhì)的含量。此方法一般是用于微量分析。在實(shí)際應(yīng)用中,一般利用循環(huán)伏安法確定出峰位置,然后再利用線性掃描伏安法或是差分脈沖伏安法來進(jìn)行具體微量分析。

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如圖為利用循環(huán)伏安法進(jìn)行出峰位置判斷后利用微分脈沖伏安法擬合直線,可作為傳感器進(jìn)行微量分析。

同時(shí)采用懸汞滴電極,可以獲得一系列循環(huán)伏安圖。若陰、陽極峰電流隨時(shí)間逐漸增加,則表明該物質(zhì)在電極上吸附積累,陰、陽峰電位十分接近表明它是一個(gè)表面過程,吸附物產(chǎn)生的電量(峰面積)可以用來計(jì)算表面覆蓋度。

CV的具體分析方法


1
CV采用什么體系進(jìn)行測量?為什么?

CV是表征電極反應(yīng)參數(shù)的一種手段。電極反應(yīng)一般是由氧化還原體系,支持電解質(zhì)與電極體系構(gòu)成。在絕大多數(shù)循環(huán)伏安法測量中均采用三電極體系,采用三電極系統(tǒng)的原因是極化過程中工作電極、輔助電極的電位在發(fā)生變化,且極化電流在工作電極和輔助電極之間溶液上產(chǎn)生的歐姆電位降也會(huì)附加到被測的電極電勢上,對測試結(jié)果產(chǎn)生影響。

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2
 CV定性分析的具體方法

(1)CV測試時(shí)有哪些重要的參數(shù)?在測量時(shí)如何對參數(shù)進(jìn)行選擇?

【科研干貨】電化學(xué)表征:循環(huán)伏安法詳解-11

CV在測量時(shí)需要對于①初始電位②上限電位③下限電位④初始掃描方向⑤掃描速度⑥掃描段數(shù)(2段為1圈)⑦采樣間隔⑧靜置時(shí)間⑨靈敏度(數(shù)值和測試電流同一數(shù)量級或大一級,盡量小,但是測試過程左下角不會(huì)出現(xiàn)overflow)進(jìn)行設(shè)置,通過測定物出峰的范圍以及需求進(jìn)行設(shè)置,通常可以先進(jìn)行大范圍的電位測試,確定出峰位置,然后再選擇合適的電位區(qū)間,需要注意的是電位范圍選擇過大會(huì)出現(xiàn)水的氧化還原峰,對于測試物出峰會(huì)有影響。

(2)CV圖中如何確定氧化還原峰?

循環(huán)伏安曲線中還原峰對應(yīng)陰極反應(yīng),其電流為陰極電流,對應(yīng)的峰為還原峰,峰電位越正,峰電流越大,越容易還原;而氧化峰則對應(yīng)陽極反應(yīng),其電流是陽極電流,對應(yīng)的峰為氧化峰,峰電位越負(fù),峰電流越大,越容易氧化。

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從電位上判斷,對于同一氧化還原電對,通常氧化峰位于還原峰較正的位置上,也就說,峰電位較正的峰是氧化峰,峰電位較負(fù)的峰是還原峰,這是極化造成的結(jié)果

掃描方向:循環(huán)伏安法參數(shù)設(shè)置中有一項(xiàng)起始掃描極性(negtive 還是positive),正掃(從低電壓向高電壓掃描)是指從負(fù)電位到正電位,掃出的峰就是氧化峰;負(fù)掃(從高電壓向低電壓掃描)是指從正電位到負(fù)電位,說明外加電路給電極上加電子,溶液中易發(fā)生還原反應(yīng)的離子(例如:三價(jià)鐵離子)向電極靠近,得到電子,從而發(fā)生還原反應(yīng),所以掃出的峰就是還原峰。所以電位越負(fù)的話,說明還原性越強(qiáng),所以掃出的峰就是還原峰。

在同一電壓向正掃和向負(fù)掃將分別是氧化和還原,不是看電壓高低來決定是氧化還是還原。

(3)CV圖需要對哪些參數(shù)進(jìn)行分析?

循環(huán)伏安圖中可以得到的幾個(gè)重要參數(shù)是:陽極峰電流(ipa),陰極峰電流(ipc),陽極峰電位(Epa)和陰極峰電位(Epc)。

測量確定峰值電流ip的方法是:沿基線作切線外推至峰下,從峰頂作垂線至切線,其間高度即為ipEp可直接從橫軸與峰頂對應(yīng)處讀取。

(4)如何利用CV確定反應(yīng)機(jī)理?

以下圖光降解反應(yīng)為例,推測其反應(yīng)過程,二聯(lián)吡啶釕作為氧化劑,抗壞血酸為還原劑。

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活化能與電位之間關(guān)系如下:

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通過溶劑系數(shù)等合并后可得兩個(gè)不同反應(yīng)過程的吉布斯自由能計(jì)算式:

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電位數(shù)值代入則可得到吉布斯自由能大小,根據(jù)自由能的正負(fù)則可判斷反應(yīng)歷程。

(5)如何利用CV判斷反應(yīng)特性?

①利用循環(huán)伏安確定反應(yīng)是否為可逆反應(yīng)(一般這兩個(gè)條件即可)

a.氧化峰電流與還原峰電流之比的絕對值等于1.

[有時(shí)對同一體系,掃描速率不同也會(huì)在一定程度上影響其可逆性。一般而言,掃描速度對峰電位沒有影響,但掃描速率越大其電化學(xué)反應(yīng)電流也就越大.]

b.氧化峰與還原峰電位差約為59/n(mV), n為電子轉(zhuǎn)移量(溫度一般是293K).

[但是一般我們實(shí)驗(yàn)時(shí)候不是在這個(gè)溫度下,因此用這個(gè)算是有誤差的,一般保證其值在100mv以下都算合理的誤差.]

②判斷擴(kuò)散反應(yīng)或者是吸附反應(yīng):

改變掃描速率,看峰電流是與掃描速率還是它的二次方根成正比。

a.若是與掃描速率成線性關(guān)系,就是表面控制.

b.若是與二次方根成線性關(guān)系, 就是擴(kuò)散控制.

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全部 3小時(shí)前 四川
文字是人類用符號記錄表達(dá)信息以傳之久遠(yuǎn)的方式和工具。現(xiàn)代文字大多是記錄語言的工具。人類往往先有口頭的語言后產(chǎn)生書面文字,很多小語種,有語言但沒有文字。文字的不同體現(xiàn)了國家和民族的書面表達(dá)的方式和思維不同。文字使人類進(jìn)入有歷史記錄的文明社會(huì)。
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