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XPS測(cè)試樣品的要求及取樣量詳解

XPS 測(cè)試樣品要求及取樣量詳解 X 射線光電子能譜（ XPS ）技術(shù)，又稱為化學(xué)分析電子能譜（ ESCA ），是一種表面分析技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)等領(lǐng)域。一、 XPS 測(cè)試樣品量要求 XPS 技術(shù)主要分析樣品表面的元素組成、化學(xué)狀態(tài)及電子結(jié)構(gòu)。由于 XPS 是一種表面分析技術(shù)...

2024-11-11

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表面化學(xué)顯微鏡：原位XPS技術(shù)詳解

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2024-11-07

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XPS數(shù)據(jù)分析及分峰處理（擬合）的步驟與實(shí)踐

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2024-07-15

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淺層信息，深度解析：XPS數(shù)據(jù)分析技巧

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2024-07-12

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物質(zhì)表面分析新方法：原位XPS技術(shù)

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2024-07-08

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納米尺度表面分析：微區(qū)XPS優(yōu)勢(shì)

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2024-07-05

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2024-06-24

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2024-06-14

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